Zwei für viele FällePVD-Beschichtungs­werkstoffe
(Si, SiO₂)

Wir bieten für Ihre spezielle PVD-Beschichtungen sowohl hochreines elementares Silicium (Si) – in geschnittener oder gebrochener Form – als auch oxidisches Silicium als hochreinen Quartz (SiO₂) gebrochen und mit amorpher oder kristalliner Struktur an.

Geschnitten oder gebrochen, mono- oder multikristallin: Vor allem in der Industrie kommt hochreines Silicium (Si) in unterschiedlicher Form zur Anwendung. Es dient der Beschichtung verschiedenster Werkstoffe, um deren Materialeigenschaften zu optimieren und funktionale Schichten herzustellen. Es wird vor allem in der Photovoltaik, Optik und Optoelektronik, der Halbleitertechnik, Flachglasfertigung sowie im gesamten Spektrum der Forschung und Entwicklung genutzt. Wir bieten hochreines Silicium in einer Reinheit von mindestens 4N, auf Wunsch gereinigt und geätzt.

Gebrochen amorph oder kristallin: Hochreines Quarzglas (SiO₂) dient als Ausgangsstoff für spezielle Beschichtungen in der Optik und Optoelektronik, der Halbleitertechnik, der Flachglasfertigung sowie in der Forschung und Entwicklung. Unser SiO₂ erhalten Sie in einer Reinheit von mindestens 5N – gesiebt und fraktioniert.


Technische Daten

Silicium (Si) Reinheit: mind. 4N
  Dotierung: Bor (p-Typ)
  spez. Widerstand: 0,01 – 3 Ohmcm
  Aufbereitung: gesiebt und fraktioniert
Silicium (SiO₂) Reinheit: mind. 5N
  Aufbereitung: gesiebt und fraktioniert

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