Dünnschicht­technologie /
Oberflächen­veredelung

Je nach Anwendungszweck lassen sich mithilfe von Dünnschichttechnologie und Oberflächenveredlung die physikalischen und optischen Eigenschaften von Oberflächen gezielt verändern und einstellen. Hierbei gilt es, einerseits hohe Anforderungen an die Materialreinheit zu erfüllen und andererseits teilweise hohe Stückzahlen innerhalb kurzer Zeiträume zu bewältigen. Zudem werden unterschiedlichste Formen benötigt, was das Handling bei der Verarbeitung zusätzlich anspruchsvoll macht.

Wir produzieren Sputter-Targets aus Silicium und Siliciumdioxid in Form von Planar- und Rohr-Targets für Ihre individuellen Anwendungen – in hoher, zuverlässiger Qualität und mit großer Flexibilität. So bieten wir eine hoch effiziente Einzelteil-Fertigung genauso wie die Produktion von Qualifizierungsmengen. Auch die Serienfertigung mit hohen Stückzahlen und engen Terminketten ist problemlos möglich: kalkulierbar, wirtschaftlich und in reproduzierbarer Qualität.

Bearbeitbare Materialien

Silicium (Si)

Produkte

Sputter-Targets